莱宝真空泵在真空镀膜上的使用是真空系统使用中的一大分支,广泛用于许多方面,例如光学,电子,物理和化学仪器,包装,机械和外观加工技能。 昆山真空泵系统厂有限公司将介绍真空镀膜的前几种方法。
使用真空镀膜,只需了解在真空环境下,使用蒸发,溅射和随后的冷凝方法,可以在金属,玻璃,陶瓷,半导体和塑料零件等物体上镀上金属膜或覆盖层。 与传统的涂层方法相比,真空涂层的使用被归类为干涂层。 其主要方法包括:
首先,真空蒸发。 原理是使用蒸腾装置在真空下加热蒸腾物质以使其蒸发或增加。 蒸腾离子流被引导至基底,并且固体膜沉积在基底上。
第二,喷涂。 溅射涂层处于真空条件下。 2000V高压连接到阴极以激发辉光放电。 带正电的氩离子撞击阴极以发射原子。 溅射的原子通过惰性气氛沉积在基板上。 薄膜层。
第三,离子镀。 它是在上述两种真空镀膜技术的基础上开发的,因此具有两种工艺特性。 在真空条件下,使用气体放电使工作气体或蒸腾物质(薄膜材料)离解,在离子轰击下,蒸腾或其反应物沉积在基材表面上。 在成膜过程中,基材被高能粒子轰击,非常干净。
第四,真空缠绕涂层。 真空辊涂是一种使用物理气相沉积来连续涂覆柔性基板以完成柔性基板的一些功能和装饰特性的技术。
上面的四个因素归因于物理气相沉积技术(PVD)的使用。
hen之后进行化学气相沉积(CVD)。 它使用化学反应方法制成薄膜。 原理是在一定温度下,将包含成膜材料的反应气体传递至基板并进行吸附。 在基板上发生化学反应以形成核,然后将反应产物从基板表面分离。 分散成膜。
结合离子注入和气相沉积沉积技术的束沉积电镀是一种离子表面复合处理技术。 该技术使用离子化的粒子作为沉积数据,在相对较低的基板温度下形成具有出色特性的薄膜。
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